2024年10月10日訊 —— 兩臺(tái)高數(shù)值孔徑(High NA)極紫外(EUV)光刻機(jī)近日在一家領(lǐng)先的芯片制造商的工廠內(nèi)順利完成安裝。這兩臺(tái)設(shè)備每臺(tái)售價(jià)約為3.5億美元,是目前全球最先進(jìn)且最昂貴的光刻機(jī)之一。
高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)迅速部署
據(jù)悉,這兩臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)已于去年年底運(yùn)抵位于美國(guó)俄勒岡州的生產(chǎn)工廠,預(yù)計(jì)將在2025年年底開(kāi)始投入生產(chǎn)。這些光刻機(jī)被認(rèn)為是現(xiàn)有EUV技術(shù)的“升級(jí)版”,而非全新產(chǎn)品,使得其推出和采用速度相對(duì)較快。
“高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)更像是現(xiàn)有EUV光刻機(jī)的升級(jí)款,我們期待其能夠快速推出和應(yīng)用,”該公司新任首席執(zhí)行官在近期的一次公開(kāi)演講中表示。
創(chuàng)新組裝方法節(jié)省時(shí)間與成本
在近期舉辦的國(guó)際光學(xué)大會(huì)上,該公司新任首席執(zhí)行官詳細(xì)介紹了高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的組裝新方法。這些設(shè)備現(xiàn)在可以在客戶現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行組裝,而無(wú)需在制造商處預(yù)先組裝后再拆卸搬運(yùn)。這一方法已在處理相對(duì)簡(jiǎn)單的沉積和蝕刻工具時(shí)取得成功,對(duì)于高復(fù)雜度的光刻設(shè)備則仍在優(yōu)化中。此舉預(yù)計(jì)將大幅節(jié)省時(shí)間和成本,加快高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的發(fā)展步伐。
模塊化設(shè)計(jì)提升通用性與效率
常規(guī)EUV光刻設(shè)備與高數(shù)值孔徑EUV光刻設(shè)備之間的主要區(qū)別在于鏡頭堆棧。通過(guò)模塊化設(shè)計(jì),用戶可以在同一基本工具中更換不同類型的鏡頭堆棧,包括常規(guī)EUV鏡頭、高數(shù)值孔徑鏡頭及超高數(shù)值孔徑鏡頭。這種設(shè)計(jì)不僅提高了設(shè)備的通用性,還帶來(lái)了更多的成本節(jié)約和安裝時(shí)間的縮短,從而提升了整體利潤(rùn)。
穩(wěn)定電源與高效生產(chǎn)
高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)所需的基礎(chǔ)設(shè)施已全部到位并開(kāi)始運(yùn)行,包括穩(wěn)定的740瓦電源,未來(lái)將實(shí)現(xiàn)1000瓦的供電能力。此外,光掩模檢查系統(tǒng)也已啟動(dòng),確保設(shè)備無(wú)需過(guò)多輔助支持即可投入生產(chǎn)。
高掩模尺寸突破芯片性能
去年,一位芯片工藝專家在國(guó)際會(huì)議上提出將掩模尺寸從6英寸×6英寸擴(kuò)大到6英寸×12英寸的想法。今年,該技術(shù)得到了多家光掩模基礎(chǔ)設(shè)施公司的大力支持。該公司表示,采用雙倍尺寸掩模對(duì)于行業(yè)來(lái)說(shuō)是一個(gè)輕松的突破,預(yù)計(jì)將克服高數(shù)值孔徑技術(shù)在芯片尺寸上的限制,實(shí)現(xiàn)40%的性能提升。
高數(shù)值孔徑光刻機(jī)加速生產(chǎn)
另一位光刻總監(jiān)透露,目前已有兩臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)在波蘭的生產(chǎn)工廠安裝完畢。這兩臺(tái)系統(tǒng)展示了相較于標(biāo)準(zhǔn)EUV光刻機(jī)的顯著改進(jìn),預(yù)計(jì)安裝速度將比第一臺(tái)更快。所有必要的基礎(chǔ)設(shè)施已到位,光掩模檢查系統(tǒng)也已開(kāi)始運(yùn)行,使得高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)能夠更快地投入生產(chǎn)。
行業(yè)內(nèi)的反應(yīng)與未來(lái)展望
盡管部分芯片制造商以成本為由暫緩接受高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī),但業(yè)內(nèi)分析人士預(yù)測(cè),隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和生產(chǎn)效率的提升,這些制造商將不得不跟進(jìn),以保持在行業(yè)內(nèi)的競(jìng)爭(zhēng)力。此外,有傳言稱,高數(shù)值孔徑光刻機(jī)的推出將有助于克服當(dāng)前技術(shù)瓶頸,推動(dòng)摩爾定律的持續(xù)發(fā)展。
此次會(huì)議對(duì)高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的推出及整體技術(shù)進(jìn)步被視為利好消息,不僅有助于提升芯片制造的精度和效率,也對(duì)相關(guān)設(shè)備制造商的股價(jià)產(chǎn)生積極影響。隨著全球半導(dǎo)體市場(chǎng)對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)需求的增加,高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)的成功部署將進(jìn)一步鞏固其在行業(yè)內(nèi)的領(lǐng)先地位。
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